国内刊号:51-1311/O4
国际刊号:1001-4322
发布日期:
作者:唐青, 刘鲁伟, 李炜, 余强, 孙文通, 王锴,
关键词:石英, 真空钎焊, 磁控溅射, 真空窗, 光电子器件,
面向超高真空精密光学系统的迫切需求,对高性能石英真空窗的封接技术展开系统性研究。石英虽具备优异透光性,但其与金属封接时因热膨胀系数差异较大导致的界面应力集中与真空密封失效,一直是制约低漏率石英真空窗制备的关键技术瓶颈。针对这一难题,提出采用磁控溅射技术在石英焊接面依次沉积Ti/Mo/Cu/Ag多层膜系,构建具有热应力缓冲能力的梯度功能金属化层,实现了石英表面的有效金属化。扫描电镜观察表明,所制备膜层连续致密、结构均匀;纳米压痕实验进一步测得金属化层与石英基底的结合强度约为3.83 N,表明膜层附着牢固可靠。实验结果表明:基于该金属化方案所制备的真空窗口组件,其漏率低于10−12 Pa·L/s。该成果可广泛应用于同步辐射、量子测量及空间探测等领域,为高性能真空器件的发展提供关键技术支撑。
来源:2026年第4期
《强激光与粒子束》期刊编辑部