国内刊号:51-1311/O4
国际刊号:1001-4322
发布日期:
作者:陈泽畑, 仵武汉, 李昆,
关键词:Talbot-Lau干涉, 高能量密度, 等离子体, X射线成像,
随着高能量密度(HED)物质诊断需求的日益增长,X射线干涉成像技术在该领域得到了广泛关注和应用。主要综述了X射线干涉成像技术与系统的国内外最新进展,介绍了基于Talbot和Talbot-Lau干涉的X射线光栅成像原理和能力,Talbot干涉和Talbot-Lau干涉是通过利用具有周期性结构的光栅,对X射线的相位、吸收和散射特性进行高精度测量,从而实现对样品内部结构的无损检测与成像。总结了该技术在高能量密度物质诊断实验中的应用,介绍了Talbot干涉分析(TIA)代码,并依靠TIA程序与Flash流体力学代码结合进行了初步模拟,成功获取了Flash模型中的吸收、相位和暗场三种信息,最后总结和展望了X射线Talbot-Lau干涉诊断技术在高能量密度等离子体实验中的应用。
来源:2025年第5期
《强激光与粒子束》期刊编辑部