强激光与粒子束

北大核心,CA,INSPEC,JST,CSCD

国内刊号:51-1311/O4

国际刊号:1001-4322

强激光与粒子束杂志2024年第12期:有机污染与缺陷耦合损伤的抑制技术研究

发布日期:

作者:邵智聪, 凌秀兰, 陈旭彬, 陈鑫,

关键词:薄膜缺陷, 保护层, 有机污染, FDTD, 激光损伤,

在真空和空间环境下,光学薄膜的抗激光损伤能力会极大地降低,主要是由于真空环境中放气有机污染与薄膜内部缺陷的耦合效应导致薄膜光场增强。而保护膜技术是一项能够提高光学薄膜抗激光损伤能力的有效措施。基于时域有限差分算法,分析了保护层技术对有机污染液滴与缺陷耦合诱导薄膜光场增强的抑制作用。分析结果显示TiO2薄膜光场的峰值随着保护层厚度增加而下降。保护层折射率为有机污染液滴和膜层折射率的中间值时,光场增强的抑制作用最大。实验结果也对理论分析进行了验证。该研究加深了对真空中光学薄膜抗激光诱导损伤降级机制的理解,对提高真空环境中光学薄膜的抗激光损伤能力有一定参考价值。

来源:2024年第12期

《强激光与粒子束》期刊编辑部

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