国内刊号:51-1311/O4
国际刊号:1001-4322
发布日期:
作者:刘浩, 马平, 蒲云体, 赵祖珍,
关键词:HfO<sub>2</sub>薄膜, 激光损伤阈值, 电子束蒸发, 离子束溅射, 原子层沉积,
结合自身实验条件采用电子束蒸发(EBE)、离子束溅射(IBS)和原子层沉积(ALD)三种工艺制备了HfO2薄膜,对其进行退火实验,采用1 064 nm Nd: YAG激光测定了即时沉积和退火后各HfO2薄膜的抗激光损伤能力。研究发现,ALD HfO2薄膜的激光损伤阈值最高,EBE HfO2薄膜次之,IBS HfO2薄膜的损伤阈值最低;300 ℃退火对各工艺薄膜抗激光损伤能力的影响均为负面,500 ℃退火则会显著降低ALD HfO2薄膜的抗激光损伤能力。
来源:2020年第7期
《强激光与粒子束》期刊编辑部